БЕЛОРУССКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ
ФАКУЛЬТЕТ РАДИОФИЗИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ
Кафедра физической электроники
А. А. Лабуда, Н. Н. Никифоренко
ФИЗИЧЕСКАЯ
МИКРОЭЛЕКТРОНИКА
УЧЕБНОЕ ПОСОБИЕ
Для студентов специальности Н.02.03.00
«Физическая электроника»
МИНСК
БГУ
2001
УДК 621.38(075.8) + 533.9(075.8)
ББК 32.844.1я73 + 22.333я73
Л12
Рецензенты:
доктор физико-математических наук
кандидат физико-математических наук
Научный редактор
член-корреспондент НАН Беларуси,
доктор физико-математических наук
Л12 Физическая микроэлектроника: Учеб. пособие /
, – Мн.: БГУ, 2001. – 132 с.: ил., табл.
Учебное пособие по курсу лекций, читаемых студентам специальности Н.02.03.00 «Физическая электроника». В нем изложены физические закономерности, лежащие в основе функционирования элементов интегральных схем, физические основы планарной технологии микроэлектроники, а также способы оперативного спектрального контроля и управления вакуумно-плазменными технологическими процессами нанесения и травления тонких пленок.
УДК 621.38(075.8) + 533.9(075.8)
ББК 32.844.1я73 + 22.333я73
ã БГУ, 2001
ОГЛАВЛЕНИЕ
Предисловие ............................. | 5 |
1. Краткая история зарождения и развития электроники и микроэлектроники ........................ | 7 |
2. Концептуальные диаграммы электроники, микроэлектроники и физической микроэлектроники ................. | 10 |
2.1. Концептуальная диаграмма полупроводниковой электроники ... | 10 |
2.2. Концептуальная диаграмма микроэлектроники .......... | 11 |
2.3. Концептуальная диаграмма физической микроэлектроники .... | 12 |
2.4. Концептуальная диаграмма физических основ технологии микроэлектроники ........................ | 13 |
3. Физические явления и процессы, лежащие в основе работы изделий микроэлектроники ................. | 14 |
3.1. Материалы микроэлектроники; связь между свойствами материалов и параметрами интегральных схем ............ | 14 |
3.2. Полупроводниковые материалы ................ | 14 |
3.3. Диэлектрические материалы .................. | 18 |
3.4. Металлы в микроэлектронике ................. | 20 |
4. Структурные и энергетические модели материалов микроэлектроники .......................... | 22 |
4.1. Модель ковалентной связи ................... | 22 |
4.2. Модель энергетических зон ................... | 24 |
4.3. Математическая модель энергетических зон (модель Кронига-Пенни) ...................... | 27 |
4.4. Модель энергетических зон для примесных полупроводников ... | 30 |
5. Статистика носителей зарядов в полупроводниковых материалах микроэлектроники ................... | 32 |
5.1. Статистика Ферми – Дирака .................. | 32 |
5.2. Концентрация носителей зарядов в полупроводнике ....... | 34 |
5.3. Вырожденные полупроводники ................. | 39 |
6. Кинетические явления в полупроводниковых микроструктурах .. | 40 |
6.1. Эффект Холла ......................... | 41 |
6.2. Генерация и рекомбинация носителей зарядов .......... | 42 |
6.3. Явления переноса в динамически неравновесном состоянии; уравнение непрерывности ..................... | 43 |
7. Контактные явления в микроэлектронных структурах .... | 45 |
7.1. Контактная разность потенциалов; работа выхода ....... | 45 |
7.2. Контакт двух металлов .................... | 47 |
7.3. Контакт металла с полупроводником ............. | 48 |
7.4. Барьер Шотки ........................ | 51 |
7.5. Омические контакты ..................... | 51 |
7.6. Контакт двух полупроводников одинакового типа проводимости (n–n+ и p–p+) .................... | 52 |
7.7. Контакт полупроводника с атмосферой; эффект поля; поверхностные состояния .................... | 53 |
8. Активные и пассивные элементы микроэлектроники ..... | 59 |
8.1. Физические явления в p–n-переходе; интегральные диоды .... | 60 |
8.2. Физический принцип функционирования биполярного транзистора в интегральном исполнении; контакт типа n–p–n ....................... | 64 |
8.3. Физический принцип функционирования полевого транзистора планарного типа .................. | 66 |
8.4. Пассивные элементы микроэлектроники ............ | 70 |
9. Физические основы технологии микроэлектроники ...... | 75 |
9.1. Классификация технологических процессов .......... | 75 |
9.2. Нанесение тонких пленок для целей микроэлектроники ..... | 77 |
9.3. Вакуумно-плазменная технология в микроэлектронике ..... | 91 |
9.4. Модификация поверхности полупроводника; диффузия и ионная имплантация ................ | 104 |
10. Физические аспекты контроля в микроэлектронике ..... | 109 |
10.1. Классификация методов контроля .............. | 110 |
10.2. Физические методы контроля ................ | 112 |
10.3. Оперативный контроль в микроэлектронике; определение момента окончания технологического процесса ........... | 117 |
11. Перспективные направления развития микроэлектроники ... | 124 |
11.1. Избирательная радиационная стимуляция плазменных технологических процессов .................... | 125 |
11.2. Функциональная микроэлектроника .............. | 127 |
Литература .............................. | 131 |
ПРЕДИСЛОВИЕ
В основу учебного пособия положен лекционный курс, читаемый для студентов, обучающихся по специальности Н.02.03.00 «Физическая электроника» в Белорусском государственном университете. В нем кратко изложены основные аспекты современной микроэлектроники с позиции физических закономерностей, лежащих в основе технологии производства и функционирования элементов интегральных схем. Поэтому эта книга не является учебником по микроэлектронике в традиционном понимании [1, 2], или узкопрофильным учебным пособием, в котором рассматриваются технологические или схемотехнические вопросы производства изделий микроэлектроники [3 – 7]. В ней мы попытались обратить внимание читателя на задачи и проблемы современной микроэлектроники с позиции физики. Следует отметить, что такой подход к изложению материала частично используется в ряде книг и учебных пособий [8 – 11] и является весьма эффективным, позволяющим обобщенно оценить роль фундаментальных исследований и открытий в этой области и видеть перспективу ее развития. С этих позиций во введении изложена история развития электроники, а в заключении проанализированы физические ограничения миниатюризации и предположительно указаны пути дальнейшего развития микроэлектроники.
Для наглядности структуры содержания и последовательности изложения материала использованы концептуальные диаграммы, идея которых предложена в работе [9].
Изложение фактического материала начинается с сопоставления основных характеристик различных полупроводниковых материалов с соответствующими параметрами интегральных схем, что позволяет оптимальным образом сочетать их при создании приборов с заданными параметрами. Подчеркивается перспективность использования алмаза в качестве широкозонного полупроводника.
Для целостности содержания кратко изложены статические и кинетические закономерности распределения и переноса зарядов в полупроводниковых структурах, физические и математические модели зонной энергетической структуры. Более подробно рассмотрены контактные явления, лежащие в основе функционирования активных и пассивных элементов интегральных схем.
При рассмотрении физических основ технологии в микроэлектронике использован физический принцип классификации отдельных операций [1], согласно которому все множество технологических способов обработки поверхности можно разбить на три группы: нанесение тонких слоев, удаление тонких слоев и модификация проводимости приповерхностного слоя путем диффузии и ионной имплантации. То же можно сказать и о классификации различных способов вакуумно-плазменного травления, соотнося их к одной из двух групп: физическое распыление и плазмохимическое травление.
С позиции физики изложены возможные методы контроля и оперативного управления технологическими процессами и более подробно – широко используемый метод спектрального контроля.
В заключительной части рассмотрены перспективные направления совершенствования технологических процессов, как например, радиационное стимулирование и пути развития микроэлектроники в целом.
Изложенный в пособии материал может быть полезным специалистам, работающим в области микроэлектроники, желающим более углубленно изучить отдельные аспекты этой области.
А. А. Лабуда,
Н. Н. Никифоренко
1. КРАТКАЯ ИСТОРИЯ ЗАРОЖДЕНИЯ
И РАЗВИТИЯ ЭЛЕКТРОНИКИ И МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
Современную микроэлектронику можно рассматривать как область науки и техники, в которой на базе интеграции схемотехнических, конструкторских и технологических решений создаются высоконадежные микроминиатюрные электронные схемы и устройства, основными элементами которых являются интегральные микросхемы (ИМС). Дальнейший прогресс в этой стремительно развивающейся области во многом зависит от глубины понимания физических процессов, лежащих в основе функционирования изделий микроэлектроники. Рассмотрение этих вопросов следует отнести к компетенции физической микроэлектроники, которую можно трактовать как область науки, изучающую физические принципы создания и функционирования интегральных микроэлектронных структур.
Таким образом, содержанием данного учебного пособия являются вопросы, связанные с электронной структурой материалов микроэлектроники, их физическими и математическими моделями структур, статистикой распределения и переноса электрических зарядов в реальных полупроводниковых структурах интегральных схем с присущими им естественными и искусственными неоднородностями и с процессами в контактах. Рассматриваются также особенности активных и пассивных элементов в интегральном исполнении, физико-химические аспекты технологии изготовления ИС, критически оценивается состояние и перспективы дальнейшего развития микроэлектроники с учетом физических ограничений и новых возможностей.
Физическая микроэлектроника не является составной частью микроэлектроник, а лишь взглядом на нее с позиции физики. Аналогично можно говорить об инженерной, схемотехнической и других сторонах микроэлектроники.
Теоретической базой зарождения и развития физической микроэлектроники, как и электроники в целом, были фундаментальные открытия Х1Х столетия, касающиеся изучения электронных свойств и переноса зарядов в твердых телах. Так, еще в 1833 г. Фарадей обнаружил отрицательную температурную зависимость электросопротивления у сульфида серебра. Последовавшие затем глобальные открытия, такие, как закон электромагнитной индукции, сформулированный Фарадеем в 1832 г. и теоретически обоснованный Максвеллом в 1864 г. (уравнения Максвелла); открытие термоэлектронной эмиссии Эдисоном в 1864 г. и электрона Томсоном в 1894 г.; создание вакуумного диода Флемингом в 1905 г. и триода Ли-де-Форестом в 1906 г. и, наконец, создание в 1948 г. полупроводникового биполярного транзистора Шокли, Бардиным и Брейтоном, получившими за это открытие в 1956 г. Нобелевскую премию, обусловили зарождение и доминирование сначала электровакуумной электроники (1900 – 1950 гг.), а затем с 1948 г. полупроводниковой электроники на дискретных элементах.
Переход от дискретной полупроводниковой электроники к интегральной микроэлектроники был менее продолжительным и длился всего 10 лет с 1948 по 1958 г. Основным стимулом появления в 1958 г. первых прототипов микроэлектронных изделий был нарастающий кризис в дискретной электронике, известный в литературе как «проблема межсоединений».
Увеличение объема обрабатываемой информации повлекло за собой увеличение числа элементов схемы, а следовательно и габаритов электронной аппаратуры, что неизбежно привело к снижению надежности ее функционирования, а заодно и быстродействия. Попытка первого этапа миниатюризации путем уменьшения габаритов дискретных элементов, применение печатного монтажа и некоторые другие приемы проблемы не решили. Огромное количество контактов и ручной способ их осуществления создали непреодолимую проблему на пути дальнейшего развития.
Преодоление этих трудностей виделось в дальнейшем уменьшении линейных размеров элементов и, что главное, переходе на новую технологию их изготовления. Выход был найден в создании так называемой планарной технологии при групповом способе изготовления как отдельных элементов, так и соединений их между собой в готовую интегральную микросхему. Так, в тонком приповерхностном слое (несколько микрон) полупроводникового кристалла (Ge, Si, GaAs) с использованием таких технологических операций, как эпитаксия, фотолитография, диффузия, нанесение и размерное травление тонких полупроводниковых, проводящих и диэлектрических слоев при высокой степени автоматизации, одновременно изготовляется сотни и тысячи активных и пассивных элементов и соединений между ними, что в итоге представляет собой множество однотипных интегральных микросхем.
Совершенствование технологии изготовления интегральных схем продолжается непрерывно, и только углубленное представление о протекающих в них физических процессах обеспечит, на наш взгляд, успешное продвижение в этом направлении. В этом состоит основная задача физической микроэлектроники.
Следует однако отметить, что полупроводниковая микроэлектроника с характерным для нее постоянным возрастанием степени интеграции и неизбежной в связи с этим дальнейшей миниатюризации, уже в настоящее время встречает ряд принципиальных ограничений на пути своего развития. Так, например, предельно минимальное значение мощности, способное обеспечить функционирование полупроводникового прибора при 300 оС 1 мкВт, и предельное значение показателя качества 10–14 Дж [1], ограничивают плотность упаковки элементов и быстродействие схемы. Связано это с тем, что в микроэлектронике, как и в дискретной электронике, сохраняется один и тот же принцип функционирования активных элементов: использование статических неоднородностей в твердых телах. В этом отношении дискретный полупроводниковый диод и биполярный транзистор ничем, кроме размеров, не отличаются от таковых в интегральном исполнении, то есть в микросхеме.
Выход видится в переходе на изделия, принцип функционирования которых основан на использовании так называемых динамических неоднородностей, где линейные размеры в данном случае не имеют принципиального значения. Таким образом, нынешняя полупроводниковая микроэлектроника сможет совершенствоваться и развиваться по пути функциональной микроэлектроники. Приборы, работающие на динамических неоднородностях, разрабатываются уже сейчас. Это системы памяти на приборах зарядовой связи (ПЗС), линии задержки на поверхностных акустических волнах (ПАВ) и другие. Изучение физических принципов функционирования таких электронных систем также является одной из задач физической микроэлектроники.
2. КОНЦЕПТУАЛЬНЫЕ ДИАГРАММЫ
ЭЛЕКТРОНИКИ, МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
И ФИЗИЧЕСКОЙ МИКРОЭЛЕКТРОНИКИ
Четкое представление о содержании отдельных разновидностей современной электроники и микроэлектроники дают концептуальные диаграммы [9], представляющие собой блочную взаимосвязанную структуру проблем, решаемых в данной области. Сравнение этих диаграмм позволяет наглядно представить различие в подходах к изучению по сути одной и той же задачи создания и совершенствования электронных устройств. Ниже представлены концептуальные диаграммы производства изделий полупроводниковой электроники и микроэлектроники, а также физической микроэлектроники, в том числе и физических основ технологии микроэлектроники. Приведенные диаграммы не требуют специальных пояснений и могут рассматриваться как графическое представление (алгоритм) содержания соответствующих дисциплин, позволяющие наглядно сопоставлять сходство и различия между ними.
|
Из за большого объема этот материал размещен на нескольких страницах:
1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12 |



