L'importance d'une précision extrême dans les mesures de fréquence et de longueur est fondamentale dans le domaine de la métrologie dimensionnelle. Le contrôle rigoureux des incertitudes relatives permet d'assurer une constance et une fiabilité accrues dans l’utilisation des standards primaires pour la mesure de distances et de déplacements à des échelles de plus en plus petites. Voici quelques exemples clés d'outils utilisés pour la mise en œuvre des mesures dimensionnelles à des échelles critiques.

Prenons l'exemple d'un laser à hélium-néon stabilisé par iode. Ce type de laser, avec une longueur d'onde de 633 nm, utilise la technique de détection de la troisième harmonique pour stabiliser sa fréquence à un niveau de 473 612 353 604 kHz, avec une incertitude relative de 2.1 × 10^(-11). Ce laser est particulièrement efficace pour la calibration des systèmes d'interférométrie laser, tels que ceux utilisés pour mesurer des déplacements très fins. À cet égard, le laser stabilisé à l’iode devient un étalon primaire, essentiel dans des applications de haute précision où la stabilité de la fréquence est critique. La modulation par un transducteur piézoélectrique (PZT), qui induit une modulation de fréquence de 6 MHz, permet de détecter un "creux" dans le spectre d'absorption de l'iode, assurant ainsi une stabilisation constante du laser à une fréquence précise.

En revanche, un laser He-Ne non stabilisé, tout en étant largement utilisé dans les instruments de mesure, offre une précision moindre, avec une incertitude relative de 1.5 × 10^(-6). Dans des applications où la précision de la longueur d'onde est moins critique, comme dans les interféromètres à plat Fizeau, l'absence de stabilisation peut être acceptable. Il est important de comprendre que pour des distances réduites, l'interférométrie est limitée par des techniques de comptage de franges et d'interpolation, et que la précision de la mesure dépend aussi des effets du réfractive index de l'air dans lequel le laser fonctionne.

Les lampes spectrales, en particulier celles qui utilisent le 114Cd, apportent également une source de référence utile. Elles permettent d'obtenir une incertitude relative plus élevée de 2 × 10^(-8) pour des longueurs d'onde spécifiques, comme celle de 644.0248 nm, ce qui les rend adaptées pour les interferomètres de blocs de jauge et les applications en spectroscopie.

À l’échelle nanométrique, où la précision des mesures devient essentielle, des méthodes secondaires, comme la mesure du déplacement par référence à l'espacement des plans cristallins de silicium, jouent un rôle clé. Par exemple, l'espacement du réseau Si {220}, d'une valeur de 192.015 571 4 × 10^(-12) m, est utilisé pour des applications avancées de nanométrologie. Les interféromètres à rayons X et la microscopie électronique à transmission (MET) permettent de réaliser des mesures avec des incertitudes pouvant atteindre des limites aussi faibles que 1 nm pour les structures de moins de 200 nm. De plus, les artefacts de standardisation fabriqués à partir de silicium cristallin unique permettent de mesurer des hauteurs de pas monoatomiques avec une incertitude inférieure à 5 pm dans des conditions de vide ultra élevé (UHV).

Un autre aspect fondamental de la métrologie dimensionnelle est la gestion de la température, puisque l’expansion thermique des matériaux influe directement sur les dimensions des objets mesurés. Pour garantir l’exactitude des mesures, la norme ISO fixe une température de référence à 20 °C pour la plupart des mesures géométriques. L’impact de la température sur les mesures est généralement évalué en fonction du coefficient d'expansion linéaire (CTE) des matériaux. Par exemple, un objet en acier, avec un CTE de 10^(-5)/K, subira une expansion d’environ 10 µm par mètre de longueur pour chaque degré Celsius de variation de température. Les ajustements nécessaires pour des mesures effectuées à des températures différentes de 20 °C impliquent souvent l'utilisation de corrections linéaires et parfois même de termes non linéaires dans les calculs d'expansion.

Il est essentiel que les utilisateurs comprennent l'importance de ces paramètres dans la réalisation des mesures avec une incertitude minimale. Cela inclut la nécessité d'intégrer des corrections pour les effets thermiques lorsque les objets mesurés ne sont pas à la température de référence de 20 °C. L’influence de l'humidité et des autres facteurs environnementaux doit également être prise en compte, surtout lorsqu'il s'agit de travailler à l’échelle nanométrique. À cette échelle, même les fluctuations thermiques les plus petites peuvent provoquer des variations significatives dans les mesures, ce qui rend le contrôle des conditions expérimentales crucial pour garantir des résultats précis.

Comment l'interférométrie peut-elle être utilisée pour des mesures de haute précision ?

L'interférométrie est une technique de mesure extrêmement précise qui repose sur l’interférence de deux ondes lumineuses ou électromagnétiques. Cette méthode est largement utilisée pour des applications où des mesures d’une grande précision sont requises, telles que dans le domaine de la métrologie dimensionnelle ou la détection de déplacements infimes. Pour comprendre comment l’interférométrie fonctionne, il est nécessaire d’explorer certains concepts clés relatifs à la lumière et aux ondes électromagnétiques.

Lorsqu’on considère la lumière comme une onde électromagnétique de fréquence optique, sa description mathématique repose sur les équations de Maxwell. Ces équations montrent que l’amplitude d’une onde lumineuse peut être exprimée sous la forme d’un champ électrique oscillant, se propageant avec une vitesse c, fréquence f et longueur d’onde λ. La formule de base pour une onde lumineuse dans la direction z, à une fréquence ω, est donnée par :

E(z,t)=Excos(ωtkz)x^+Eycos(ωtkz)y^E(z,t) = E_x \cos(\omega t - kz) \hat{x} + E_y \cos(\omega t - kz) \hat{y}

ω=2πf=2πcλ\omega = 2\pi f = \frac{2\pi c}{\lambda} est la fréquence circulaire, et k=2πλk = \frac{2\pi}{\lambda} est le nombre d'onde. Dans ce contexte, l’intensité lumineuse I est définie comme étant proportionnelle au carré de l’amplitude de l'onde, comme indiqué par la relation :

I(z)=12E2I(z) = \frac{1}{2} E^2

Cependant, lorsque deux faisceaux lumineux, provenant de différentes sources ou de chemins différents, interagissent en un même point, leurs champs électriques peuvent se superposer. Cette superposition des ondes conduit à un phénomène connu sous le nom d’interférence, où les intensités lumineuses résultantes peuvent être plus grandes ou plus petites, selon les relations de phase entre les ondes. L’interférence stable et visible se produit généralement lorsque les longueurs d’onde des faisceaux sont identiques et qu’il existe une relation de phase bien définie entre les ondes superposées.

Dans le cas d’un interféromètre de Michelson, par exemple, un faisceau lumineux est divisé en deux faisceaux qui suivent des trajectoires optiques différentes avant de se recombiner. L’interférence entre ces faisceaux dépend des différences de longueur de parcours optique, et peut être observée sous forme de variations d’intensité lumineuse. L’intensité lumineuse à l’écran est donnée par :

I(ΔL)=C(I1+I2+2I1I2cos(2kΔL))I(\Delta L) = C \left( I_1 + I_2 + 2 \sqrt{I_1 I_2} \cos \left( 2k \Delta L \right) \right)