Nel contesto della conduzione mesoscopica, la formula di Büttiker gioca un ruolo fondamentale nel descrivere il trasporto di cariche attraverso dispositivi a più terminali. Questa formula fornisce una relazione tra le correnti e i potenziali chimici nei vari terminali di un dispositivo, ed è particolarmente utile quando si trattano dispositivi con geometrie complesse, come quelli a più conduttori o quelli in presenza di campi magnetici. Per esaminare il comportamento di un sistema a più terminali, è necessario considerare la riflessione e la trasmissione dei portatori di carica tra i terminali stessi, nonché le proprietà della densità degli stati e delle probabilità di trasmissione e riflessione.

Supponiamo di avere un sistema con terminali i e j, dove la corrente incidente in un terminale i può essere riflessa o trasmessa a un altro terminale j. La riflessione dei portatori in un determinato terminale i è descritta dalla probabilità Rii(ϕ), che è funzione del flusso magnetico ϕ applicato, mentre la trasmissione tra terminali i e j è descritta dalla probabilità Ti j(ϕ). È importante notare che, in base alla conservazione della corrente e all'invarianza rispetto alla inversione temporale, queste probabilità soddisfano delle simmetrie ben definite: Rii(ϕ) = Rii(−ϕ) e Ti j(ϕ) = Tji(−ϕ).

Nel caso di un sistema multicanale, dove ogni terminale supporta un numero di canali quantistici, le probabilità di riflessione e trasmissione diventano matrici a più dimensioni, complicando il calcolo del trasporto. Tuttavia, la formula di Büttiker rimane valida, anche se le probabilità di riflessione e trasmissione vengono sommate su tutti i canali possibili. In questo contesto, la corrente in un terminale i dovuta ai portatori iniettati dal serbatoio j può essere espressa come una somma delle correnti dovute alle trasmissioni e alle riflessioni tra i canali. La formula che descrive la corrente in un terminale i diventa così:

Ii=ehji[(1Rii)μiTijμj]I_i = \frac{e}{h} \sum_{j \neq i} \left[ (1 - R_{ii}) \mu_i - T_{ij} \mu_j \right]

Questa espressione mostra come la corrente dipenda dalle differenze di potenziale chimico tra i vari terminali e dalle probabilità di trasmissione e riflessione. Le simmetrie nella trasmissione e riflessione dei portatori giocano un ruolo cruciale nel determinare le proprietà di conduttanza del dispositivo.

Nel caso di un dispositivo a quattro terminali, come quello mostrato nella figura 5.7, la corrente che entra nel terminale 1 e lascia il terminale 3 è descritta da una relazione che coinvolge le differenze di potenziale tra i terminali. Le correnti nei terminali 1 e 3 possono essere scritte come funzioni delle differenze di potenziale V1V_1, V3V_3, V2V_2 e V4V_4. L'analisi della conduttanza del sistema in questo caso può essere espressa attraverso le conduttanze α11\alpha_{11}, α12\alpha_{12}, α21\alpha_{21}, e α22\alpha_{22}, che dipendono dalle probabilità di trasmissione e riflessione tra i terminali.

Le relazioni di Onsager, che stabiliscono la simmetria della conduttanza rispetto all'inversione del flusso, sono fondamentali per comprendere la risposta del sistema a cambiamenti nel flusso magnetico. Queste relazioni implicano che le conduttanze diagonali sono simmetriche rispetto all'inversione del flusso, mentre le conduttanze fuori diagonale soddisfano la simmetria α12(ϕ)=α21(ϕ)\alpha_{12}(ϕ) = \alpha_{21}(-ϕ).

Nel caso di dispositivi a tre terminali, come quelli descritti nella sezione 5.5.1, la formula di Büttiker può essere utilizzata per analizzare il trasporto di corrente in un sistema dove uno dei terminali è usato per misurare il potenziale chimico. La relazione tra le correnti e i potenziali chimici in questo caso può essere descritta tramite una matrice, e la corrente totale che lascia il dispositivo dipende dai potenziali applicati e dalle probabilità di trasmissione tra i terminali.

Nel caso di un dispositivo a tre terminali, la formula si semplifica a una forma bidimensionale, che può essere utilizzata per calcolare le resistenze tra i terminali. La simmetria delle resistenze non è sempre evidente, in quanto dipende dalle probabilità di trasmissione e riflessione tra i vari terminali. Tuttavia, la resistenza totale tra due terminali è sempre simmetrica rispetto alla reversibilità del flusso.

Quando si considerano dispositivi a più terminali, è essenziale tenere conto della complessità introdotta dai diversi canali quantistici disponibili in ciascun terminale. Ogni canale aggiuntivo aumenta il numero di possibili stati attraverso cui può avvenire la trasmissione o la riflessione, e la conduttanza complessiva dipenderà da come questi canali interagiscono tra loro. Pertanto, l'analisi delle proprietà di conduttanza di dispositivi a più terminali richiede una comprensione approfondita delle simmetrie delle probabilità di trasmissione e riflessione, così come dei meccanismi di trasporto quantistico che governano il sistema.

Come il Diametro dei Punti Influenza la Memoria Quantistica nei Sistemi a Elettrone Singolo

Nel contesto della memoria a elettrone singolo, il miglioramento del fattore di ritenzione, αret, dipende in modo significativo dal diametro del punto e dalle caratteristiche del processo di scrittura e cancellazione. Il fattore di ritenzione può essere espressamente descritto come una funzione esponenziale del parametro di energia, E, come evidenziato nell'equazione (8.5). L'andamento esponenziale di αret in relazione a E riveste una grande importanza per la progettazione di memorie avanzate, poiché consente di ottenere miglioramenti sostanziali nella durata della memorizzazione delle informazioni, riducendo al minimo la perdita di carica nel tempo.

In particolare, la figura 8.25 mostra chiaramente come il fattore di ritenzione αret cresca in modo esponenziale con la diminuzione del diametro del punto, passando da un ordine di grandezza all’altro. Con un diametro del punto inferiore, il fattore αret può aumentare anche di oltre un fattore di 102, un risultato che rende questa tecnologia particolarmente interessante per le applicazioni in cui la stabilità della memoria nel lungo termine è cruciale. Al contrario, la velocità di scrittura e cancellazione, rappresentata dal fattore αw/e, è meno influenzata da questo parametro, rimanendo sotto il valore di 10 in molti casi. Ciò suggerisce che, sebbene la velocità di queste operazioni rimanga relativamente costante, la ritenzione delle informazioni può essere notevolmente migliorata, un compromesso favorevole per applicazioni che privilegiano la durabilità rispetto alla velocità.

Nella parte inferiore della figura 8.24, viene mostrato il diagramma a bande durante le operazioni di scrittura, dove il processo di scrittura e cancellazione avviene in condizioni di |Veff| > 2E. In queste circostanze, si può ottenere una velocità elevata nella memoria a doppio punto grazie all'assenza di barriere energetiche nel processo di tunneling. Questo comportamento è estremamente importante per comprendere i limiti superiori delle velocità operativi nei sistemi di memorizzazione a elettrone singolo.

Un altro aspetto fondamentale da considerare è la dipendenza temporale della finestra di memoria, come illustrato nella figura 8.26. Questa mostra come, sotto condizioni di bias identiche, il comportamento della memoria a doppio punto (sia con punti più grandi che con quelli più piccoli) differisca significativamente dalla memoria a punto singolo. La memoria a doppio punto con diametri inferiori, ad esempio, presenta una finestra di memoria che rimane stabile per periodi di tempo molto più lunghi rispetto alla memoria a punto singolo. Per esempio, un dispositivo a punto singolo può vedere la sua finestra di memoria ridursi drasticamente dopo 10⁴ secondi, mentre la memoria a doppio punto con diametri più piccoli può mantenere una finestra stabile per tempi di almeno 10² volte superiori. Questo dimostra chiaramente come la dimensione del punto influisca non solo sulla capacità di ritenzione della memoria, ma anche sulla sua capacità di mantenere i dati per periodi di tempo prolungati, una proprietà essenziale per applicazioni non volatili.

Inoltre, è cruciale capire che, mentre la velocità di scrittura e cancellazione non è esponenzialmente influenzata dal parametro E come la ritenzione, la combinazione dei fattori αw/e e αret deve essere ottimizzata per bilanciare la velocità operativa con la stabilità della memoria. La tecnologia delle memorie a elettrone singolo, pur offrendo un miglioramento della ritenzione grazie alla riduzione del diametro del punto, richiede una gestione accorta dei parametri operativi per evitare che la velocità di scrittura e cancellazione diventi un collo di bottiglia.

Infine, quando si considerano le applicazioni pratiche della memoria a elettrone singolo, è fondamentale non solo ottimizzare i fattori come il diametro del punto e la gestione del bias, ma anche considerare la loro integrazione con altre tecnologie semiconduttori. La capacità di ridurre la dimensione dei dispositivi e migliorare la ritenzione senza compromettere troppo la velocità operativa potrebbe essere la chiave per il successo di queste memorie nei futuri sistemi di memorizzazione a bassa potenza e ad alta densità.

La Spintronica: Un Nuovo Orizzonte per l'Elettronica

La spintronica, una branca emergente dell'elettronica, si occupa dell'utilizzo del momento magnetico degli elettroni, noto come "spin", per sviluppare nuovi dispositivi che potrebbero sostituire i tradizionali semiconduttori basati sull'elettronica convenzionale. Un evento significativo in questo campo è stato il 1995, quando fu scoperto un fenomeno inaspettato chiamato "tunnel magnetoresistance" (TMR). Quando i momenti magnetici di due strati ferromagnetici passano dalla configurazione parallela a quella antiparallela, la resistenza di tunneling può variare del 20–30%. Questo ha portato alla creazione di dispositivi come la giunzione tunnel magnetica (MTJ), che sfrutta la tecnologia TMR e ha dato vita a una nuova generazione di memoria magnetoresistiva non volatile (MRAM). A differenza della memoria tradizionale basata su CMOS, la MRAM è resistente alla perdita di dati in caso di interruzione di corrente, offre velocità di lettura simili alla memoria statica (SRAM) e una capacità comparabile con quella della memoria dinamica (DRAM), rendendola molto promettente per future applicazioni.

Una delle categorie principali della spintronica riguarda lo studio dei semiconduttori, con l'obiettivo di creare un'imballanza nel numero di spin per realizzare transistor a spin e valvole a spin. Questi dispositivi potrebbero sostituire i tradizionali dispositivi elettronici grazie alle loro caratteristiche di basso consumo energetico e velocità di commutazione elevata. L'uso di tecnologie e apparecchiature semiconduttori già sviluppate consente di ridurre i costi di sviluppo, rendendo questi dispositivi molto attrattivi per il futuro.

Per sfruttare il grado di libertà dello spin nei semiconduttori, è necessario produrre, mantenere, controllare e rilevare la polarizzazione degli spin dei portatori. Esistono diverse tecniche per generare una corrente di spin, tra cui l'iniezione ohmica, l'iniezione per tunneling, l'iniezione di elettroni balistici, l'uso dello splitting di Zeeman gigante in un semiconduttore magnetico diluito (DMS) sotto un campo magnetico, e l'uso di un semiconduttore ferromagnetico (FMS) come calibro di spin, nonché metodi ottici.

L'iniezione ohmica, ad esempio, sfrutta un metallo ferromagnetico (FM) come elettrodo per iniettare elettroni polarizzati di spin in un semiconduttore. Tuttavia, quando il contatto ohmico è creato tra un FM e un semiconduttore, l'iniezione di elettroni spin-polarizzati è influenzata dalla dispersione di spin flip, che riduce la polarizzazione dello spin. A temperature inferiori a 10 K, è stato possibile ottenere elettroni con polarizzazione di spin del 4,5% da un contatto FM-InAs, e del 2% da un contatto Fe-GaAs a temperatura ambiente.

In questo contesto, sono stati proposti diversi dispositivi semiconduttori spintronic, tra cui il transistor a effetto di campo a spin (SFET), ideato da Datta e Das nel 1989. Nonostante gli sforzi significativi, non si è ancora riusciti a sviluppare completamente il transistor a spin originariamente proposto, il che evidenzia quanto sia ancora lunga la strada da percorrere nel campo della spintronica. Un altro dispositivo importante è il transistor a spin a base di grafene, che sfrutta le proprietà uniche di questo materiale bidimensionale per il controllo e la manipolazione dello spin.

Il transistor a spin proposto da Datta e Das si basa sull'interazione tra l'orbita e lo spin degli elettroni, nota come interazione Rashba. Il principio di funzionamento di questo dispositivo è simile a quello di un modulatore elettro-ottico. In un modulatore elettro-ottico, la luce polarizzata a 45° rispetto all'asse y subisce diverse variazioni di fase a causa delle proprietà ottiche del materiale. Allo stesso modo, nel transistor a spin, un campo elettrico applicato a un gas di elettroni bidimensionale induce una interazione Rashba tra orbita e spin. Questo causa una separazione tra gli stati di spin-up e spin-down, modificando la velocità e la direzione di questi elettroni.

Nel dispositivo a spin, gli elettroni iniettati dalla sorgente sono polarizzati lungo la direzione x. Grazie all'interazione Rashba, gli elettroni di spin-up e spin-down che viaggiano nella direzione x avranno energie differenti, anche se la differenza non dipende da un campo magnetico, ma dal termine Rashba. Questo porta a uno spostamento di fase differenziale tra gli elettroni di spin-up e spin-down, un fenomeno che può essere sfruttato per modulare il flusso di corrente di spin nel dispositivo. Questo comportamento è simile alla modulazione della luce in un modulatore elettro-ottico.

Inoltre, negli ultimi decenni, la miniaturizzazione dei dispositivi elettronici ha raggiunto limiti tecnologici fondamentali nei semiconduttori tradizionali, in particolare nel silicio. Sebbene la continua riduzione delle dimensioni dei dispositivi abbia portato enormi progressi, ci sono limitazioni intrinseche che potrebbero impedire ulteriori miglioramenti in termini di prestazioni. La ricerca su dispositivi spintronici e su materiali come il grafene e i nanotubi di carbonio si sta concentrando su una nuova era per l'elettronica, in cui l'uso del spin degli elettroni potrebbe superare i limiti imposti dalle tecnologie convenzionali. I nanotubi di carbonio e il grafene, con le loro proprietà uniche, sono candidati ideali per sostituire i materiali semiconduttori tradizionali, poiché permettono una conduzione elettrica migliore e più efficiente.

I dispositivi spintronici rappresentano una delle vie più promettenti per l'innovazione futura in elettronica. Sebbene ci siano ancora molte sfide da affrontare, il potenziale di queste tecnologie potrebbe rivoluzionare non solo l'industria dei semiconduttori, ma anche i settori legati alla memorizzazione dei dati, al calcolo e alla comunicazione, creando nuove opportunità per un futuro in cui la gestione dell'informazione si basa sul controllo e sulla manipolazione degli spin degli elettroni.