Numerické simulace dynamiky výboje sekundárních elektronů a jejich chování ve dielektrických materiálech ozařovaných elektronovými paprsky poskytují cenné informace pro studium různých elektrických rovnováh, které se v materiálech vytvářejí. V této části se zaměřujeme na simulace polyme‑rového materiálu, polymethylmetakrylátu (PMMA), jehož elektronová mobilita je nízká a který je běžně využíván v kosmickém prostředí. Cílem těchto simulací je lépe pochopit dynamiku sekundární emise elektronů v dielektrických materiálech vystavených elektronovému záření.

Ve většině simulačních modelů jsou stanoveny podmínky, které vycházejí z toho, že vzorek dielektrického materiálu je uzemněn na spodní straně. V případech, kdy negativní náboj na dielektrickém materiálu způsobený ozářením je mnohem větší než pozitivní náboj, je energetická hodnota elektronového záření nastavena na úroveň, která je vyšší než druhá křižová energie křivky sekundární emisní výtěžnosti (SEY), což vede k tomu, že SEY je menší než 1 a materiál se stává negativně nabitým. Tento proces způsobuje akumulaci negativního náboje v materiálu, což vede k poklesu energie dopadajících elektronů a následnému nárůstu sekundární emisní výtěžnosti.

Dynamika sekundární emise elektronů a její vztah k zbytkovému proudu závisí na vnitřním nábojovém vyrovnání vzorku. Jak je ukázáno na obrázku 6.13, proces každé tranzientní změny proudu pro tři různé podmínky ukazuje variace v čase pro různé tloušťky vzorků, které byly simulovány. Tyto podmínky zahrnují různé hodnoty tloušťky vzorku (50, 5 a 25 μm), což přímo ovlivňuje dynamiku sekundární emise a celkový tok elektrických nábojů v materiálu. Při pokračujícím ozáření se sekundární elektronová emise vyvíjí od vzorců s výrazným nárůstem proudu až po stav, kdy dochází k dynamické rovnováze mezi emitovanými a dopadajícími elektrony.

Významným parametrem pro určení dynamiky je tloušťka vzorku, která přímo ovlivňuje rovnováhu mezi sekundární emisí a únikem náboje. Tloušťka vzorku má rozhodující vliv na to, jak rychle a v jaké míře dochází k akumulaci náboje na povrchu vzorku. Pro tenčí vzorky (např. 10 μm) se proces vyrovnání náboje vyznačuje pomalým nárůstem sekundárního elektronového proudu a malou změnou ve zbytkovém proudu. Naopak pro silnější vzorky (např. 40 μm) je tento nárůst rychlejší a výraznější, což vede k tomu, že sekundární elektronová emise se blíží hodnotám blízkým 1.

Navíc je důležité si uvědomit, že dynamika sekundární emise elektronů ve vztahu k tloušťce vzorku není pouze o rychlosti vyrovnání, ale také o hloubce, na které se náboj v materiálu akumuluje. Při menší tloušťce vzorku (např. 10 μm) je distribuce náboje více soustředěná vnitřně v materiálu, zatímco u silnějších vzorků (např. 40 μm) je náboj rovnoměrněji rozdělen a hlouběji zakotven. Tento aspekt je klíčový pro pochopení, jak se vnitřní nábojová distribuce vzorku vyvíjí a jak ovlivňuje celkovou dynamiku výboje a sekundární emise.

Důležité je také pochopit, že se v průběhu ozáření vytváří postupně stabilní rovnováha mezi příchozími a emitovanými elektrony. Tento proces, známý jako dynamické elektrické vyrovnání, ovlivňuje chování materiálu a je klíčovým faktorem při návrhu materiálů pro využití v extrémních podmínkách, jako jsou ty, které panují v kosmickém prostoru nebo při vystavení vysokým dávkám záření.

Jaký je vliv sekundární emisí elektronů na multipaktorový prah?

V této části se zabýváme modelováním trajektorie elektronů v jednoduché struktuře plochých desek, přičemž zjednodušujeme vliv magnetického pole na pohyb elektronů. Tento přístup je obvykle postačující pro základní analýzu, ale pro složitější mikrovlnné zařízení, kde čas pohybu elektronů mezi plochými deskami může být delší, je nutné zvážit vliv magnetického pole na trajektorii a úhel dopadu elektronů. V těchto případech se magnetické pole stává klíčovým faktorem, který ovlivňuje nejen samotnou trajektorii elektronů, ale i jejich interakci s mikrovlnnou součástí.

V rámci analýzy je důležité, aby čtenář pochopil, že modelování trajektorie elektronů ve zjednodušených strukturách, jako jsou ploché desky, poskytuje pouze základní představu o chování elektronů, zatímco v reálných aplikacích a složitějších systémech je třeba vzít v úvahu i další faktory, jako je magnetické po

Jak ionový zpětný efekt ovlivňuje výkon elektronových násobičů?

Při vývoji a využívání elektronových násobičů (MCP) je jedním z klíčových problémů, který může negativně ovlivnit jejich výkon, ionový zpětný efekt. Tento jev je důsledkem složitých interakcí sekundárních elektronů a reziduálních plynových molekul uvnitř kanálů MCP. Pochopení těchto procesů je zásadní pro optimalizaci MCP pro konkrétní aplikace, jako je detekce slabých signálů nebo měření fotonů.

Při provozu MCP dochází k násobení elektronů, kdy sekundární elektrony generované v kanálech mohou interagovat s povrchem kanálu a reziduálními molekulami plynu. Tato interakce vede k tvorbě pozitivních iontů, přičemž část těchto iontů, pod vlivem elektrického pole, dopadá zpět na povrch kanálu. Tento jev vyvolává vznik "pseudo-sekundárních elektronů", které mohou způsobit nežádoucí "pseudo-zisk" zařízení. Tento fenomén je obzvláště výrazný při testování na pulzní signály, kdy ionový zpětný efekt může generovat post-pulzní signály, což ztěžuje přesné měření.

Aby se potlačil vliv ionového zpětného efektu, jsou přijímány různé techniky. Jednou z nejběžnějších metod je důkladná de-gazace před použitím MCP, což zahrnuje odstranění veškerých zbytkových plynů, které mohou ovlivnit výkon detektoru. Další metodou je stackování několika MCP do kaskády, což pomáhá minimalizovat tento efekt. Kromě toho je také možné modifikovat geometrii kanálů MCP, například změnou jejich struktury ze stálejších kanálů na zakřivené, čímž se dále snižuje možnost vzniku ionového zpětného efektu.

Vývoj zakřivených kanálů MCP je důležitou oblastí výzkumu. Již od 70. let 20. století se vědci zaměřují na zlepšení výkonu těchto zařízení pomocí zakřivených struktur. Například ve Francii byla v 70. letech vyvinuta zakřivená struktura MCP s poměrem délky k průměru (L/D) 80:1, což vedlo ke zvýšení zisku až na 106. Později v 80. letech dosáhli američtí vědci při testování podobných struktur s poměrem L/D 144:1 zisku až 2 × 106 a rozlišení 30 %. Tento vývoj měl zásadní vliv na využívání MCP v kosmických aplikacích, například ve Hubbleově teleskopu.

V roce 2000 zahájila Čína vlastní výzkum zakřivených MCP a dnes se některé z těchto zařízení používají v moderních aplikacích, kde jsou kladné požadavky na detekci slabých signálů, například ve vakuu UV a extrémní UV oblasti spektra. Přesto je třeba podotknout, že výroba zakřivených MCP s vysokým poměrem L/D zůstává složitá a výrobní náklady jsou vysoké. To je důvod, proč vývoj těchto komponent probíhá stále s určitými technickými překážkami.

Kromě MCP, na poli elektronových násobičů se v 90. letech objevila nová technologie známá jako microsphere plate (MSP), vyvinutá Weizmannovým institutem vědy v Izraeli. MSP je složena z nepravidelně naskládaných skleněných korálků, které tvoří mikrokanály. Tato struktura se ukázala být velmi efektivní při práci v nízkém vakuu a může účinně blokovat ionový zpětný efekt díky přítomnosti sekundárního emisního jevu na povrchu microsfér. Využití této technologie může mít významné aplikační možnosti, zejména v zařízeních pro detekci slabých signálů.

Důležitým aspektem pro efektivní fungování elektronového násobiče je jeho schopnost detekovat slabé signály. Při silném osvětlení mohou impulsy z elektronového násobiče vykazovat těsné intervaly, což vede k analogovému signálu, který je pak analyzován. Důležité je, že elektronové násobiče musí být schopny zpracovávat signály s různou intenzitou, což vyžaduje vysokou citlivost a přesnost zařízení.

Chceme-li plně využít potenciál elektronových násobičů, je důležité nejenom eliminovat ionový zpětný efekt, ale také optimalizovat materiály a geometrii kanálů, aby se dosáhlo co nejvyššího zisku a přesnosti detekce. S pokračujícím vývojem těchto technologií se očekává, že v budoucnu budou elektronové násobiče stále častěji využívány v širokém spektru aplikací, od vědeckého výzkumu až po kosmické mise.