Новосибирский государственный технический университет
ФАКУЛЬТЕТ РАДИОТЕХНИКИ И ЭЛЕКТРОНИКИ
Кафедра Полупроводниковых приборов и микроэлектроники
УТВЕРЖДАЮ
Декан факультета РЭФ
д. т.н., проф. А.
__________________________
«____» ____________ 2011 г.
РАБОЧАЯ ПРОГРАММА УЧЕБНОЙ ДИСЦИПЛИНЫ
«Методы исследования материалов и структур»
Специальность 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника»
направления подготовки дипломированного специалиста
210100 «Электроника и микроэлектроника» заочного отделения
Новосибирск
2011
Рабочая программа составлена на основании Государственного образовательного стандарта высшего профессионального образования для подготовки дипломированного специалиста по направлению 210100 «Электроника и микроэлектроника» образовательной программы специальности 210104 «Микроэлектроника и твердотельная электроника».
Стандарт утверждён 18.01.2006 г., регистрационный номер № 000 тех/сп
Рабочая программа обсуждена и утверждена на заседании кафедры полупроводниковых приборов и микроэлектроники от 24 мая 2011 г., протокол № 4.
Программу разработали
к. т.н., доц. каф. ППиМЭ
д. ф.-м. н., зав. каф. ППиМЭ
Ответственный за основную
образовательную программу
к. ф.-м. н., доц. каф. ППиМЭ
1. Цели и задачи дисциплины.
Целью преподавания дисциплины является формирование знаний в области экспериментальных методов исследования состава, структуры, электрофизических и оптических свойств полупроводниковых материалов и структур электроники.
2. Место дисциплины в структуре ООП.
Дисциплина относится к циклу специальных дисциплин, её изучение дисциплины на знаниях и умениях, полученных при изучении курсов специальные главы физики, материалы и элементы электронной техники, твердотельная электроника и физика твердого тела и полупроводников.
Компетенции, приобретенные в результате освоения дисциплины, будут использованы при выполнении выпускных квалификационных работ, изучении общетехнических и специальных дисциплин учебного плана, связанных с исследованием материалов микроэлектроники и твердотельной электроники.
3. Требования к уровню освоения содержания дисциплины.
В результате изучения дисциплины студенты должны:
3.1. Знать:
- физические принципы основных экспериментальных методов исследования материалов и структур электроники;
- условия реализации и границы применения этих методов;
- тенденции развития методов исследования материалов и структур электроники;
3.2. Уметь:
- обоснованно выбрать спектр методов и методик для исследования требуемых свойств материалов;
- интерпретировать полученные результаты.
3.3. Владеть:
- навыком применения современных методов исследования материалов и структур электроники;
- навыком интерпретации экспериментальных данных и компьютерной обработки результатов исследований.
4. Объём дисциплины и виды учебной работы.
Трудоёмкость дисциплины составляет 140 часов. Из них 12 часов лекций, 4 часа практических занятий, 8 часов лабораторных работ, 25 часов на выполнение курсовой работы и 91 час самостоятельной работы. Изучение дисциплины заканчивается зачётом.
Вид учебной работы | Всего часов | По семестрам | |
VIII | IX | ||
Общая трудоёмкость дисциплины | 140 | 30 | 110 |
Аудиторные занятия | 24 | 4 | 20 |
Лекции | 12 | 4 | 8 |
Практические занятия | 4 | – | 4 |
Лабораторные работы | 8 | – | 8 |
Самостоятельная работа | 91 | 21 | 70 |
Курсовая работа | 25 | 5 | 20 |
Вид итогового контроля | зачёт |
5. Содержание дисциплины
5.1. Разделы дисциплины и виды занятий
№ п/п | Раздел дисциплины | Лекции | ПЗ | ЛР |
1 | Методы измерения электрофизических параметров полупроводниковых материалов и структур | * | * | * |
2 | Исследование поверхности материалов и структур электроники с помощью электронной микроскопии | * | – | – |
3 | Исследование поверхности материалов и структур электроники с помощью сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ) | * | * | * |
4 | Методы анализа с помощью электронной и ионной спектроскопии | * | – | – |
5 | Дифракционные методы анализа кристаллической структуры твердых тел | * | – | – |
6 | Оптические методы исследования полупроводников и полупроводниковых структур | * | * | * |
5.2. Содержание разделов дисциплины
1. Методы измерения электрофизических параметров полупроводниковых материалов и структур.
Методы измерения удельного сопротивления полупроводниковых материалов и структур. Двухзондовый метод измерения. Четырехзондовый метод измерения. Метод Ван-дер-Пау. Бесконтактные методы измерения.
Методы измерения концентрации и подвижности носителей заряда в полупроводниках с помощью эффекта Холла, вольт-фарадных характеристик, по спектрам поглощения и отражения.
Измерение характеристик параметров неравновесных носителей заряда. Методы измерения дрейфовой подвижности, коэффициента диффузии и диффузионной длины неосновных носителей заряда. Измерение времени жизни, диффузионной длины и скорости поверхностной рекомбинации неосновных носителей заряда.
2. Исследование поверхности материалов и структур электроники с помощью электронной микроскопии.
Применение электронной микроскопии для изучения структурного совершенства полупроводниковых материалов. Просвечивающая электронная микроскопия (ПЭМ). Полевая эмиссионная и ионная микроскопия. Отражательная электронная микроскопия. Микроскопия медленных электронов. Сканирующая электронная микроскопия (СЭМ).
3. Исследование поверхности материалов и структур электроники с помощью сканирующей зондовой микроскопии (СЗМ).
Принципы работы СЗМ. Формирование и обработка СЗМ изображений. Основные методы СЗМ. Контроль рельефа поверхности (и др. параметров) структур электроники методами сканирующей туннельной микроскопии (СТМ) и атомно-силовой микроскопии (АСМ).
4. Методы анализа с помощью электронной и ионной спектроскопии.
Контроль состава, содержания примесей и загрязнений в полупроводниковых материалах и структурах с помощью спектроскопических методов. Электронная оже-спектроскопия (ЭОС). Фотоэлектронная спектроскопия (ФЭС): рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (РФЭС) и ультрафиолетовая фотоэлектронная спектроскопия (УФЭС). Зондирования ионами. Спектроскопия рассеяния медленных ионов. Спектроскопия резерфордовского обратного рассеяния и спектроскопия рассеяния ионов средних энергий. Вторичная ионная масс-спектроскопия.
5. Дифракционные методы анализа кристаллической структуры твердых тел.
Дифракционные методы анализа кристаллической структуры твердых тел. Дифракция быстрых (ДБЭ) и медленных (ДМЭ) электронов. Определение кристаллографической ориентации монокристаллов и тонких монокристаллических пленок. Дифракционные методы оценки совершенства кристаллической структуры твердых тел. Дифракционные методы оценки структуры поверхности монокристаллов.
6. Оптические методы исследования полупроводников и полупроводниковых структур.
Физические принципы эллипсометрии. Определение толщины и оптических свойств эпитаксиальных слоев методами эллипсометрии. Рамановская спектроскопия и ИК-Фурье спектроскопия.
6. Лабораторные и практические занятия.
№ п/п | Наименование лабораторных и практических занятий | Кол-во часов |
1 | Определение типа проводимости полупроводникового материала | 2 |
2 | Определение удельного сопротивления полупроводников | 2 |
3 | Исследование поверхности твердых тел методом атомно-силовой микроскопии и обработка полученных изображений | 2 |
4 | Исследование поверхности твердых тел методом сканирующей туннельной микроскопии | 2 |
5 | Исследование свойств полупроводниковых структур с помощью ИК-Фурье спектроскопии | 2 |
6 | Сканирующая электронная микроскопия, знакомство с установкой и основами метода | 2 |
7. Учебно-методическое обеспечение дисциплины.
а) Основная литература:
1. , , Федорович параметров полупроводниковых материалов и структур. – М.: Радио и связь, 1985. – 264 с.
2. Павлов измерения параметров полупроводниковых материалов: Учеб. для вузов по спец. «Полупроводниковые и микроэлектронные приборы». – 2-е изд., перераб. и доп. – М.: ВШ, 1987. – 239 с.
3. Миронов сканирующей зондовой микроскопии: учеб. пособ. для студентов старших курсов высших учебных заведений. – Н. Новгород: ИФМ РАН, 2004. – 110 с.
4. , Введение в физику поверхности. – М.: Наука, 2006. – 490 с.
5. Нанотехнологии. – М. Техносфера, 2005. – 336 с.
б) Дополнительная литература:
1. Современные методы исследования поверхности. –М.: Мир, 1989. – 564 с.
2. В., , Стриха исследования полупроводников. – К.: Выща шк. Головное издательство, 1988. – 232 с.
3. Основы анализа поверхности и тонких плёнок: Пер. с англ. – М.: Мир, 1989. – 344 с.
4. Щука . – М. Физматкнига, 2007. – 464 с.
5. Щука . – 2-е изд., перераб. и доп. – С.-П.: БХВ-Петербург, 2008 г. – 752 с.
8. Методические рекомендации по организации изучения дисциплины.
Для реализации целей и задач курса в программе дисциплины предусматривается выполнение курсовой работы, которой представляет собой реферат по одной (или нескольким) из основных современных методик исследования полупроводниковых материалов.
Объём реферата должен составлять не менее 2-х печатных листов (1 п. л. – 16 стр. текста 14 шр., интервалом 1,5, поля стандартные).
В качестве защиты реферата предусматривается доклад, выполненный с использованием мультимедийного проектора и презентации в формате PowerPoint.
9. Примерные темы заданий на курсовую работу.
1. Дифракция быстрых и медленных электронов.
2. Методы анализа с помощью электронной и ионной спектроскопии (кратко о каждом методе).
3. Электронная оже-спектроскопия и фотоэлектронная спектроскопия.
4. Сканирующая зондовая микроскопия (кратко о каждом методе).
5. Атомно-силовая микроскопия.
6. Сканирующая туннельная микроскопия.
7. Основные виды электронной микроскопии (кратко о каждом методе).
8. Эллипсометрия.
9. Рамановская спектроскопия.
10. ИК-Фурье спектроскопия.



